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SKC solmics CMP研磨墊增設(shè)工廠,啟動(dòng)商業(yè)運(yùn)行

2021-09-03 09:23:30 來源:SKC愛思開希 閱讀量:14427 評(píng)論
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導(dǎo)讀:SKC(代表董事 李完在)的半導(dǎo)體材料、零件專業(yè)子公司SKC solmics生產(chǎn)半導(dǎo)體平坦化工藝用核心零件CMP研磨墊(Chemical Mechanical Polishing PAD)的天安工廠開始商業(yè)運(yùn)營(yíng)。

  【塑料機(jī)械網(wǎng) 明星企業(yè)】SKC(代表董事 李完在)的半導(dǎo)體材料、零件專業(yè)子公司SKC solmics生產(chǎn)半導(dǎo)體平坦化工藝用核心零件CMP研磨墊(Chemical Mechanical Polishing PAD)的天安工廠開始商業(yè)運(yùn)營(yíng)。加上原先的安城工廠,SKC solmics的年產(chǎn)能達(dá)到18萬(wàn)張,提高了CMP研磨墊的韓國(guó)國(guó)產(chǎn)化率。
 
  SKC solmics位于忠南天安的CMP研磨墊2工廠近日開始投入商業(yè)運(yùn)營(yíng)。去年共投資470億韓元,每年可生產(chǎn)12萬(wàn)張CMP研磨墊。SKC的半導(dǎo)體材料事業(yè)始于2015年,當(dāng)時(shí)共投資200億韓元在安城龍?jiān)庐a(chǎn)業(yè)園建造了年產(chǎn)6萬(wàn)張CMP研磨墊的1工廠,開始了CMP研磨墊事業(yè)。此后,隨著需求增加,又新建了2工廠,總產(chǎn)能擴(kuò)大至原先的三倍

SKC solmics 天安工廠的CMP研磨墊制造工藝圖片
 
  利用機(jī)器人提高產(chǎn)品質(zhì)量
 
  使用聚氨酯材料生產(chǎn)的CMP研磨墊與CMP研磨液一起經(jīng)過曝光、蝕刻、沉積工藝,通過機(jī)械的、化學(xué)的作用對(duì)半導(dǎo)體晶圓表面進(jìn)行研磨,是一種高附加值產(chǎn)品。作為提高半導(dǎo)體集成度所需的核心材料,最近隨著半導(dǎo)體精細(xì)化和工程數(shù)量增加,使用量有所增加。根據(jù)半導(dǎo)體市場(chǎng)調(diào)研機(jī)構(gòu)分析,CMP研磨墊的全球市場(chǎng)規(guī)模到2023年將達(dá)到1.58萬(wàn)億韓元。
 
  CMP研磨墊市場(chǎng)上兩家美國(guó)公司的市場(chǎng)占有率達(dá)到90%以上,技術(shù)和專利壁壘高,新興企業(yè)難以進(jìn)入,需要調(diào)節(jié)材料物性和加工晶圓表面的高端技術(shù)。SKC半導(dǎo)體材料事業(yè)自2015年開始后,在過去聚氨酯事業(yè)的技術(shù)和經(jīng)驗(yàn)基礎(chǔ)上,通過自主研發(fā),在國(guó)內(nèi)外申請(qǐng)了200多項(xiàng)專利,確保了事業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。
 
  SKC solmics是擁有CMP研磨墊原液制造配方的企業(yè),而且具有微米級(jí)的CMP研磨墊中可以自由調(diào)節(jié)加工尺寸和均一度的能力,這意味著可以快速研發(fā)并供應(yīng)達(dá)到客戶物性和接觸面要求的CMP研磨墊。
 
  在此基礎(chǔ)上,為CMP研磨墊材料原本大部分依賴于進(jìn)口的韓國(guó)本土生產(chǎn)做出了貢獻(xiàn)。2016年開發(fā)用于鎢工藝的研磨墊,替代了客戶使用的進(jìn)口產(chǎn)品。在韓國(guó)率先實(shí)現(xiàn)用于銅工藝的研磨墊韓國(guó)國(guó)產(chǎn)化,最近又成功率先完成了難度高的氧化工藝研磨墊韓國(guó)國(guó)產(chǎn)化,這提高了韓國(guó)國(guó)內(nèi)客戶的CMP研磨墊韓國(guó)國(guó)產(chǎn)化率。
 
  SKC solmics 有關(guān)人士表示:“ 天安工廠生產(chǎn)主要依賴于進(jìn)口的CMP研磨墊、空白光掩模,成為推動(dòng)半導(dǎo)體材料國(guó)產(chǎn)化的根據(jù)地。目前,進(jìn)行中的海外全球半導(dǎo)體制造商認(rèn)證評(píng)估已經(jīng)成功完成,我們將進(jìn)軍全球市場(chǎng),為強(qiáng)化半導(dǎo)體材料供應(yīng)鏈做貢獻(xiàn)。”
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