隨著電子產品的應用領域在不斷的擴大，半導體涉及的行業也越來越廣泛，半導體工業不僅對于純水的要求高，在產品制作的過程中將會產生大量的工業污水，因生產產品的原材料不同，所以產生的廢水的廢水性質也不同。

　　廢水處理難點：

　　1、半導體廢水處理污染物種類多，成分復雜;

　　2、含有多種重金屬、氟、硅以及有機廢水等;

　　3、含有高濃度的極細懸浮顆粒;

　　4、工業的污水排放量大;

　　5、廢水濃度低，水質變化大;

　　6、廢水中含金屬離子種類較多，需分開收集進行處理;

　　工藝流程：

　　含氟廢水：半導體含氰清洗水的處理一般采用兩級堿性氧化法處理工藝，半導體廢水處理設備設有機械攪拌系統、PH控制系統、ORP控制系統以及加藥(酸、堿、氧化劑)系統，將廢水pH值調節在10.5-11之間，ORP值300- -4oo mv，進行一級氧化破氰，反應時間為15 ~ 20min。

　　當進行二級氧化破氰時，廢水的pH值調節在pH在10.5-11之間，ORP值300- -4oo mv,反應時間15 ~ 20min,將CN-氧化就為CN0-。

　　有機廢水一般采用經濟高效的生化法，如單獨的好氧法或與缺氧法、厭氧法組合工藝，對于廢水中COD、氨氮、總氮等常規污染物去除效果非常可觀。.

　　金屬離子廢水則需針對不同廢水不同種類進行選擇，常用的有化學沉淀法、吸附法、離子交換法等。